在2026年现实约束下，"去EUV"路线在2nm节点无法形成对EUV光刻的替代性优势。最可能路径是对现有DUV光刻+自组装技术的深度优化，而非依赖颠覆性物理原理。量子传感器、高熵氧化物等激进路径存在根本性物理缺陷，无法工业落地。